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製程應用

高精密材料在半導體製程中的應用|抗靜電陶瓷與氧化鋁,氧化鋯,碳化矽,玻璃微晶瓷(可加工陶瓷),碳化矽,石英整合解決方案

徽亞科技專注於製造多種高性能材料零件,涵蓋 抗靜電陶瓷、氧化鋁(Al₂O₃)、氧化鋯(ZrO₂)、碳化矽(SiC)、玻璃微晶瓷(可加工陶瓷)、石英(Quartz) 等先進材料, 廣泛應用於 半導體晶圓製程、光電模組、自動化設備、生醫清洗與塗佈製程 等高科技產業。

我們提供具 抗靜電、耐高溫、耐腐蝕、高強度、高潔淨與一體成型 特性的解決方案, 材料依應用選擇包含: 抗靜電陶瓷、氧化鋁、氧化鋯、碳化矽、玻璃微晶瓷(可加工陶瓷)、石英, 有效應對製程中的靜電積累、化學腐蝕、熱衝擊與微粒汙染問題,支援從 晶圓搬運、切割、清洗、蝕刻、CVD、PVD、封裝 各階段需求。

材料應用說明:

  • 氧化鋁(Al₂O₃): 高硬度、高絕緣性與熱穩定性,是最常用的精密陶瓷材料,適用於CHUCK、熱壓頭、支撐盤、管件等。
  • 氧化鋯(ZrO₂): 韌性高、抗裂性強,適合做為密封件、對位零件與定位治具。
  • 碳化矽(SiC): 耐等離子腐蝕、熱導率高,適用於蝕刻環、反應艙、加熱模組、電漿絕緣套件等前段製程。
  • 玻璃微晶瓷(可加工陶瓷): 具良好絕緣性與可加工性,適用於小量多變的非金屬平台、分析儀器治具、螺絲或微型結構零件。
  • 石英(Quartz): 高純度與極低熱膨脹率,非常適合用於高溫沉積製程、晶圓加熱托盤、LPCVD 管件與反應腔結構體。

陶瓷零組件應用:

  • 陶瓷手臂 / 抗靜電陶瓷手臂:高精度晶圓搬運工具,耐高溫、無金屬污染。
  • 陶瓷真空吸盤 / 抗靜電吸盤:適用於真空系統,具耐化學腐蝕與高潔淨特性。
  • 陶瓷切割盤 / 清洗盤:確保製程穩定與高平整度,耐衝擊與耐磨耗。
  • 電漿蝕刻用陶瓷零件:選用氧化鋁、氧化鋯或碳化矽,有效抵禦等離子侵蝕。
  • CVD / PVD 陶瓷電極:具絕緣性與熱穩定性,適用於沉積與鍍膜設備。
  • 陶瓷熱壓頭:用於高溫封裝與晶圓壓接製程。
  • 陶瓷CHUCK / 對位基座:吸附晶圓與載具平台,可搭配真空孔與抗靜電結構。

石英零組件應用:

  • 石英CHUCK / 托盤:適用於加熱、蝕刻、沉積等製程,具高溫穩定性與高潔淨度。
  • 石英管、石英罩:應用於LPCVD、真空腔體、氣體導入系統。
  • 石英支架 / 晶圓定位件:用於熱處理與晶圓運輸,熱穩定性高、粒子低。

所有產品皆可 客製化設計製造,支援少量打樣與量產需求,並可搭配抗靜電塗層、導電複合加工等技術。 徽亞科技致力於協助客戶在先進封裝、蝕刻、沉積與晶圓處理中達成 高穩定、高潔淨與高效能的材料選擇